Читайте также: |
|
Гальваническая металлизация в процессе изготовления печатных плат осуществляется несколько раз.
1. Предварительное гальваническое омеднение для защиты тонкого слоя химической меди от повреждения, улучшения адгезии и структуры осадка (толщина слоя 5-7 мкм);
2. Гальваническое омеднение для получения основного токопроводящего слоя меди в монтажных и переходных отверстиях, на проводниках и контактных площадках (толщина 20-25 мкм);
3. Гальваническое осаждение металлорезиста (защитного травильного резиста на операции травления) на проводники, контактные площадки, в монтажные отверстия, для защиты на операции травления меди с пробельных мест.
4. Гальваническое осаждение металлов и сплавов на концевые разъемы печатных плат для повышения твердости, износостойкости, снижения переходного сопротивления.
Гальваническое покрытие должно удовлетворять следующим требованиям:
- быть сплошным, без разрывов, пор, включений, раковин; заданной конфигурации, пластичным, чтобы обеспечить устойчивость к перегибам, короблению, воздействию ударов и вибраций;
- неровности по краю не должны уменьшать их допустимые размеры и расстояния между ними, так как это связано с электрическими параметрами печатной платы (в противном случае может произойти перегрев проводников или пробой диэлектрика);
- элементы токопроводящего рисунка, сформированные гальваническими процессами, должны иметь ровные края, не иметь темных пятен, вздутий, отслоений;
- равномерным по толщине на поверхности и в отверстиях, что связано с обеспечением заданных электрических характеристик (минимально допустимой плотности тока) и экономическими соображениями, так как для того чтобы получить слой заданной толщины на стенках отверстий, необходимо осаждать больший по толщине слой металла или сплава на поверхности печатной платы, а это связано с лишними затратами электроэнергии и химикатов.
Важным в этом процессе является получение равномерного покрытия.
Повысить равномерность гальванического покрытия можно путем:
- повышения рассеивающей способности электролита;
- применения нестационарных режимов осаждения (например, реверса тока);
- применения ультразвуковых колебаний при осаждении;
- перемешивания, барботирования воздухом электролитов, возвратно- поступательного перемещения подвесок с заготовками, в результате чего изменяется концентрационная поляризация электродов;
- применения поверхностно-активных веществ, повышающих рассеивающую способность электролитов;
- использования добавок, повышающих электропроводность электролитов. Гальваническое омеднение предназначено для осаждения слоя меди, являющегося основным токопроводящим слоем в структуре печатных элементов - проводников.
Помимо общих требований к гальваническим покрытиям, перечисленным выше, гальваническая медь должна отвечать также следующим требованиям:
- металлизация на поверхности и в отверстиях печатных плат должна быть сплошной;
- цвет осадка меди - светло-розовый;
- относительное удлинение меди — не менее 6%,
- предел прочности на разрыв - не менее 20 кг/мм,
- удельное сопротивление - 0,0172 Ом мм /м;
- толщина слоя меди в монтажных и переходных отверстиях - не менее 25мкм,
- осадок меди должен иметь мелкозернистую структуру.
Гальваническое осаждение металлорезиста осуществляют для защиты проводников, контактных площадок, металлизированных отверстий при проведении операции травления меди с пробельных мест.
В качестве защитного металлорезиста в производстве печатных плат применяют олово, свинец, олово-свинец, олово-никель, олово-висмут.
Направленность современных процессов металлизации состоит в решении проблем равномерности покрытия узких глубоких сквозных отверстий и глухих переходов со слоя на слой.
Проблему металлизации отверстий малого диаметра пытаются решить путем интенсификации процессов обмена рабочих растворов и электролитов в узких и глубоких отверстиях.
В дополнение к покачиванию и барботажу, используются вибраторы, располагающиеся по краю или по центру катодных штанг. Вибрация освобождает узкие отверстия от пузырьков воздуха и способствует более интенсивному обмену рабочих растворов и электролитов в отверстиях.
Чтобы улучшить обмен электролита в узких и глубоких отверстиях и избавиться от эффекта «парусности» используется покачивание с захватом заготовки не только сверху, но и снизу. Для обеспечения равномерности покрытия по площади заготовки в состав линий вводятся экраны. Наиболее эффективное новшество - импульсная металлизация, позволяющая не просто выровнять толщину металлизации в отверстии и на поверхности, но и при определенных режимах получить обратный эффект: толщина осаждения на поверхности меньше, чем в отверстии – при обратном токе анодное растворение поверхности идет более интенсивно, чем в отверстии или углублении.
Дата добавления: 2015-09-11; просмотров: 26 | Поможем написать вашу работу | Нарушение авторских прав |